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第371章 放大 激光诱导

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楚千澜指尖在桌面轻叩,眼中闪过一丝亮色。

这种光刻技术,科技图书馆里也是有的,但想要实现,其中涉及到的技术比正常光刻机还要多一些。

对于深蓝半导体来说,研发光刻机亦或者放大光刻空间,这两种方案各有利弊。

光刻机已经是成熟的技术方案,深蓝半导体只要想办法规避其中的专利,就可以造出符合使用要求的光刻机。

放大光刻空间虽然能够规避大量的核心专利,但这属于全新的研发,所有难题都要深蓝半导体的技术团队自己解决。

然而,想到女娲系统的存在,楚千澜心中也有了决定。

“放大空间规避非核心专利?这个思路倒是新颖。但光刻机的核心诉求是精度与稳定性,放大体积后,光学系统的校准、工作台的振动控制肯定会出现一系列新问题?”

张北光上前一步,打开平板,上面呈现出一个三维模型图:“楚总放心,我们做过仿真测试。将机身横向放大200%,非核心部件的加工精度要求可从±0.005微米放宽至±0.01微米,可以避开87项国外非核心专利;

光学系统方面,我们采用‘分段校准’方案,通过额外增加的激光定位模块,补偿体积放大带来的光路偏差,精度能稳定在原有水准;

工作台振动问题,恒川机械已定制出加强型阻尼基座,能将高速运转时的震颤幅度控制在0.002微米以内,完全满足45纳米光刻要求。”

王世杰在一旁补充道:“更关键的是成本优势!放宽精度要求后,国内厂商能生产的零部件比例从35%提升至92%,单台光刻机的制造成本可降低40%。

而且核心部件的专利绕开方案也有了进展,张北光团队已找到12项替代技术路径,正在进行原型测试。”

楚千澜俯身盯着模型图上的标注,指尖划过放大后的机身结构:“这个方案可行,但要把握两个关键。

第一,核心部件的专利绕开必须彻底,不能给国外厂商留下诉讼漏洞;第二,体积放大不能影响量产效率,深蓝半导体未来的产能需求只会越来越大。”

张北光立刻应声:“楚总放心,核心专利绕开我们采用‘反向设计+功能等效’双路径验证。

比如光刻胶涂布模块,我们放弃国外主流的‘旋转喷涂’专利,改用‘狭缝挤压涂布’技术,实测涂布均匀度误差仅0.003微米,完全达到要求;

量产效率方面,我们优化了晶圆传送臂的运动轨迹,虽然机身放大,但单批次晶圆处理时间仅增加0.8秒。

通过增加并行处理单元,整条产线的年产能可以稳定在33万片以上,足以支撑繁星科技和下游合作厂商的需求。

当然,这些数据都是通过女娲系统测算,与现实肯定有所差距!”

王世杰补充道:“我们还做过测算,放大版65纳米光刻机的研发周期预计12个月,只比复刻原版增加了3个月;

量产成本降低40%,这意味着后续扩产时,我们能以更低的投入快速搭建新产线,应对芯片需求的爆发式增长。”

楚千澜指尖轻叩桌面,眸色渐沉:“12个月的研发周期,时间可以接受。这套设备,你们研发的是65纳米的,还是45纳米的?”

听到询问,张北光眼中闪过一丝兴奋,“楚总,我们准备直接研发45纳米制程的光刻设备!

虽然没有拆解过45纳米光刻机,但我们在国外工作时,见过那些设备,对结构很熟悉。

再加上拆解65纳米光刻机的经验,研发一套扩展空间后的光刻设备,我们团队还是很有信心的。

只是,其中的光源设备还需要采购,这里面的专利技术太多,我们短时间无法突破限制!”

楚千澜略作沉吟,语气坚定的开口,“你们先研发光刻机主体,至于光源部分,我再想想办法。

前段时间,我看到一篇关于“激光诱导放电等离子体”的文章,感觉可以将其用来制作光刻机的光源,我最近会使用女娲系统推演一番,若是可以,你们按照我给的技术大纲研发就行了!”

此时,他已经准备从科技图书馆中拿技术了,至于使用女娲系统推演,也只是借口而已。

王世杰和张北光对视一眼,都从对方眼中看到了难以置信的惊喜。

他们虽然也能使用女娲系统,但受权限所限,根本无法做到大规模搜索资料并进行推演。

这种事情,也只有拥有女娲系统最高权限的楚千澜,才可以调用所有资源推进下去。

“楚总,您是说……您要亲自解决光源问题?”王世杰的声音都有些发颤。

光刻机的光源,是整个设备的“心脏”,技术壁垒极高,长期被少数几家国外公司垄断。

他们原本以为,就算主体设备研发成功,光源也将成为卡脖子的关键,至少需要走特殊渠道,花重金从国外采购,而且还可能面临鹰酱以及国外芯片巨头的阻挠。

楚千澜淡淡点头:“嗯,那个理论还算完善,值得一试。你们先集中精力攻克主体部分,我收集一下资料就进行推演。若是行不通,就准备从国外进口!”

他语气平静,却带着一种不容置疑的自信,让两人瞬间安心下来。

“请楚总放心!”张北光激动地挺直了腰板,仿佛浑身都充满了力量,“我们保证,12个月内,一定拿出能稳定量产的45纳米光刻设备。”

两人离开后,楚千澜独自留在办公室,他调出了“女娲系统”,开始搜集“激光诱导放电等离子体”的相关资料。

即便有整套的技术,他也要根据现有的理论资料,确定拿出的资料不会超纲太多。

就在楚千澜研究光源系统该如何绕过国外专利屏障的时候,国外与芯片相关的巨头企业代表已经齐聚一堂。

他们此时已经获得星途EdA工具与星象指令集的试用版本,正在研讨应阻击星源探索发展的方案。

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